KLA-Tencor宣布推出Teron SL650光罩质量控制方案
KLA-Tencor公司宣布推出TeronSL650，该产品是专为集成电路晶圆厂提供的一种新型光罩质量控制解决方案，支持20nm及更小设计节点。
TeronSL650采用193nm光源及多种STARlight光学技术，提供必要的灵敏度和灵活性，以评估新光罩的质量，监控光罩退化，并检测影响成品率的光罩缺陷，例如在有图案区和无图案区的晶体增长或污染。
此外，TeronSL650拥有业界领先的产能，可支持更快的生产周期，以满足检验更多数量的先进技术光罩的需要。
KLA-Tencor光罩产品事业部(RAPID)副总裁兼总经理熊亚霖博士称：“对于集成电路制造商而言，了解光罩状况是图案成像工艺控制的核心要素，因为光罩质量变化可能会对在印的每一片晶圆造成毁灭性影响。
针对TeronSL650，我们的团队在适合集成电路晶圆厂的一个紧凑平台上采用了最先进的光罩检测技术，生产出一款具有先进灵敏度、高产能和可扩展至未来节点能力的光罩质量控制系统。
通过监测新光罩的关键缺陷，并在生产期间识别掩模图案的累积缺陷和变化，我们的TeronSL650能够帮助芯片制造商保证设备成品率、性能和生产周期。”
TeronSL650利用STARlightSD和STARlightMD创造出更胜一筹的缺陷捕获率，以及分别在单芯片和多芯片光罩上的全面检测，藉此支持晶圆厂内各种类型的光罩。
芯片制造商还可以使用创新型STARlightMaps技术来追踪光罩随着时间的退化，找出临界尺寸(CD)、薄膜厚度、抗反射层以及光罩上的其他变量的变化——这些变化会影响光罩质量从而影响光刻工艺窗口或图案印刷。
此外，TeronSL650与超紫外线(EUV)检测技术兼容，能够与集成电路制造商及早协作，满足晶圆厂对EUV光罩的要求。
多台TeronSL650光罩检测系统已在世界各地的代工厂、逻辑电路与存储器生产厂安装，用于新光罩的质量检测，以及先进集成电路制造中所用光罩的重新检验。
为了保持高性能和高产能，满足最先进的生产需要，TeronSL650系统由KLA-Tencor的全球综合服务网络提供支持。
